文/王新喜
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6月30日，荷兰政府发布《先进半导体制造设备法规》，荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）最新公告称，目前最先进的浸没式DUV出口需得到荷兰政府认可。
路透社昨天报道，美国和荷兰企图给中国芯片制造商来一套所谓“组合拳”，将进一步限制对华销售芯片制造设备。报道称，美国预计将更进一步，利用其广泛影响力阻止“特定中国厂商”获得更多荷兰设备。
中国使馆表示，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中国是世界最大的半导体市场，也是全球半导体供应链的重要组成部分。荷方以所谓“国家安全”为由人为设限损害全球产业链供应链的稳定，还将破坏荷支持自由贸易的良好信誉。
在此前，更先进的EUV光刻（极紫外光刻）系统已经受限制，但是放行了浸润式DUV光刻机，如今，部分最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）也遭受了限制。不过ASML也回应了，并非所有浸润式DUV光刻系统。
也就是说，中国依然还是能从ASML进口部分低端的DUV光刻机，但都是技术相对落后的，先进的，都用不了。
另据美国《华尔街日报》援引知情人士的消息称，美国商务部可能很快采取行动，禁止英伟达等芯片制造商在事先未获得许可证的情况下，向中国和其他相关国家的客户出口芯片。
总之，对方要精准卡住中国芯片往高端发展，在高端市场受限。当然，在低端光刻机领域，还是给中国的设备进口留了一条活路。
从当前荷兰的再度出手光刻机限制来看，我们可以从中看清哪些现实？
国内光刻机技术走到哪一步了？我们要看清哪些现实？
在光刻机领域，过去两年时间里，中国科学家已陆续突破双工台系统和物镜的这项核心技术。不久前，据多家主流媒体报道，在中科院的主导下，首台国产EUV光源工程样机正式落地。
这次突破的意义在于，光源系统作为高端光刻机的核心组成部分，有了该设备，我们可以在光学元件、真空系统等多个方面对EUV光刻机的稳定性进行测试，这为接下来的量产机奠定了基础。
此外，包括国内光刻机公司南大光电已经开发出多款ArF光刻胶，这些光刻胶制程覆盖到28nm—90nm，自给率已经突破1%。
而日前中国电科旗下电科装备最近也实现了国产离子注入机28纳米工艺制程全覆盖，而离子注入机是芯片制造中的关键装备。
当然，诸多技术从实验室到落地，最后能成为一个影响产业的产品，距离非常远，影响因素也很多。技术要变成有竞争力的商用产品，除了硬件还需要有软件的配合，到形成生产设备，需要时间。
总的来说，国内确实在技术上面有很多的发展，但有一个过程，这个过程是漫长的，目前包括上海微电子等企业的国产光刻机完全不能满足国产芯片代工厂商的需求,其28nm的光刻机喊了很多年，迄今未交付商用。
以前是中国某项技术快突破时，西方一定是大甩卖同级技术产品。现在荷兰的种种限制，也透露国产光刻机技术的进展依然有限，因为一旦突破到了商用时间节点，包括荷兰将因此放行先进光刻机出口以及与中国合作。
过去传出的哈尔滨工业大学“高速超精密激光干涉仪”以及国内某公司开发了SAQP技术，都宣称能解决7nm以下的光刻机难题。但目前我们认清的现实是，现在的限制，就意味着国产光刻机尤其是7nm突破依然任重道远。
根据业内人士透露，7nm 采用DUV光刻机，技术上没有问题，大规模生产要考虑配套的材料和良率，材料也是可以攻克的，同样也是良率和磨合的问题，生产过程中的良率提升需要不断的磨合。而相比较数字电路的良率，模拟电路的良率是瓶颈，尤其是高速IO，对于整芯片，只要有一个模块良率低，整体良率就被拉下来了。
所以能力有了，怎么提升良率才是关键，有了较高的良率，才有成本竞争力。这也是国内7nm未来要突破的一个关键环节。
路还很远，一步步踏实走才是真的。
放弃占其公司业务量一半的市场：这是ASML的悲哀
从ASML的角度来看，其中有它的无奈与不得已之处。光刻机的需求，中国几乎占了全球一半，2019年，中国芯片制造商对光刻机的需求占据全球总供应的近40%。预计在2023年，中国市场对光刻机的需求将继续增长，占比超过50%。
一个占据其公司业务量一半的市场，ASML被逼的放弃，无疑也是ASML的悲哀，去年ASML已经损失40%利润了。
事实上，ASML一直在呐喊，但是呐喊也很无力，国内也一直想从利益角度说服ASML，ASML也非常动心，但是它没有主导权与话语权，甚至包括荷兰首相也没有主导权。
前阵子刚跟荷兰首相谈了关于光刻机对华的事，现在荷兰又跟美国进一步搞限制了，在政治面前，ASML的利益是可以用来牺牲的，该限制还是照样限制，荷兰和阿斯麦也只能顺从。
一个集合了全球顶尖技术的公司，被美国搞的如此卑微，产品有订单但不可以卖给全球占比最大的市场，这无疑是阿斯麦的悲哀。
从这件事情，我们看出，中美关系的改善依然任重道远，寄希望美国放弃制裁，可能依然不现实。
当然，这对我们而言也绝非坏事，现在暂时没有，但中国也是目前全球唯一有希望全产业链自主研发光刻机的国家，难度是大但并非不可实现。关键是看能否做到咬着牙去攻克。
产业链开放合作，有时候是建立在反制能力的基础上
因此，从好的方面来看，被卡也是好事，断绝对外依赖的奢望，埋头构建自己独立的全产业链，已经是唯一的出路。
从产业的角度来看，光刻技术是全人类共同拥有的技术，应该为全人类各国共享。但我们很多时候，就是没有认清世界丛林竞争的残酷性，过去我们很多人，对于全球供应链、自由贸易、开放合作有着不容置疑的确定性认知，一个国家搞定芯片产业链的想法，被很多专家嗤之以鼻。
但是残酷的现实其实证明了，一些关键技术的自由贸易与开放合作更多是建立在自给能力以及反制能力的基础上。
而在光刻机、芯片以及对外贸易领域，我们其实不想与荷兰翻脸，毕竟，美国把希望都押宝在了半导体领域。荷兰也没有决定权，光刻机关键技术在美国手里。
从目前美国放行低端卡高端的做法来看，他们其实没有想产业链脱钩，因为产业链脱钩是所有产品市场、市场脱钩，若真的是市场分割了，那所谓知识产权也就没啥意义了，比拼的只是市场容量和产品成本了。
其实，他们的目的还是想中国在低端产品上卖苦力。
本质上，我们也没有太强的反制能力。对我们来说， 一个重要方面要围绕下一代晶体管的材料、器件与工艺等方面进行持续的探索与专利布局，卡住下一代技术，才有望淘汰上一代技术，从而形成反制手段。
反思市场化模式是否有进一步优化空间
从当前的形势来看，中国的芯片产业非常艰难，但是我们要记得，自力更生，奋发图强建设我们的国家老一辈科学家留给我们的宝贵精神财富。
这么多年来看，一个需要看清的现实是，国产高端光刻机与芯片技术的突围进展，其实还谈不上我们过去引以为傲的中国速度。在过去我们的芯片研发模式中，一般是市场化的驱动模式。
但是老一辈在科技产业领域的突围，其实并非完全市场化的方式，当然，再好的技术，没市场也是空中楼阁。但只靠市场驱动，或许难以更高效的在产业链上升级突破。
有时候，市场化的驱动方式，往往是钱不知道花哪里去了，过去芯片骗补的案例屡屡发生，过去几年，众多芯片公司的项目火速上马，后来也迅速倒闭，其中也有值得我们思考的弊端。
此外，基于竞争关系，有时候各家公司有很多同质化的投入与竞争，而缺乏错位与互补式的投资与产业研发。如果当年两弹一星是市场化的研发方式，事实上也很难成功。芯片的研发，要有人才与资源投入，其实更需要优化调整产业政策，加强举国体制的投入和监管。
必须做的事，没退路了，那早晚就要做出来。但是如何更高效的去突破，更好的统筹国内产业链的人力、财力与物力，可能也是当下需要反思以及进一步优化的地方。
作者：王新喜 TMT资深评论人 本文未经许可谢绝转载
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